پودر سیلیسید تنگستن پودر WSi2

سیلیسید تنگستن (WSi2) یک ترکیب معدنی است که سیلیسید تنگستن است. این یک ماده سرامیکی رسانا است.

در میکروالکترونیک به عنوان ماده تماسی با مقاومت مقاومت 60-80 μΩ سانتی متر استفاده می شود. در 1000 درجه تشکیل می شود. اغلب به عنوان یک شنت برای سیم های پلی سیلیکونی برای افزایش رسانایی و سرعت سیگنال استفاده می شود. لایه سیلیسید تنگستن را می توان با رسوب شیمیایی بخار تهیه کرد، به عنوان مثال با استفاده از مونوسیلان یا دی کلروسیلان با هگزافلوورید تنگستن به عنوان گاز منبع. فیلم رسوب‌شده غیر استوکیومتری است و برای تبدیل به فرم استوکیومتری رساناتر نیاز به بازپخت دارد. سیلیسید تنگستن یک جایگزین اولیه برای فیلم تنگستن است. سیلیسید تنگستن همچنین به عنوان یک لایه مانع بین سیلیکون و سایر فلزات مانند تنگستن استفاده می شود.

سیلیسید تنگستن همچنین کاربردهایی در سیستم های میکروالکترومکانیکی دارد و عمدتاً به عنوان یک لایه نازک برای ساخت مدارهای ریزمقیاس استفاده می شود. برای این منظور، فیلم‌های سیلیسید تنگستن را می‌توان با استفاده از گاز تری فلوراید نیتروژن پلاسما اچ کرد.

WSi2 در پوشش های ضد اکسیداسیون عملکرد خوبی دارد. به طور خاص، مشابه دی‌سیل‌کش مولیبدن (MoSi2)، انتشار بالای دی‌سیل‌کش تنگستن، این ماده را برای خنک‌سازی تابشی در دمای بالا جذاب می‌کند و بر حفاظت حرارتی تأثیر می‌گذارد.